隨著近幾年國家對知識產(chǎn)權(quán)的重視，國內(nèi)的企業(yè)
專利申請量明顯大幅度增加，但是不少企業(yè)在專利申請過程中仍存在誤區(qū)。
誤區(qū)一 技術(shù)方案交待不清楚
很多人提交的專利申請文件非常簡單，有的甚至只有幾句話，技術(shù)方案完全沒有交待清楚，這給專利代理人制作正式專利申請文件帶來很大困難。
在要求發(fā)明人提供更多的技術(shù)方案時，他們會以技術(shù)保密為由回避。
這些發(fā)明人其實就是沒有把握好保密與公開的度。
他們過度地要求保密，害怕多透露一點技術(shù)信息，而恰恰是這種“過度”忽視了技術(shù)方案交待不清楚，公開不充分的問題。
誤區(qū)二 專利申請前不做任何檢索
有些發(fā)明人提交的專利申請文件沒有做查新檢索，對技術(shù)方案的新穎性如何不確定。
甚至根本不知道其技術(shù)方案有沒有公開過或公開使用過，這也是一個非常普遍的現(xiàn)象。
全世界范圍內(nèi)的任何文獻都可影響技術(shù)方案的新穎性。但在使用方面，只有國內(nèi)的使用才影響技術(shù)方案的新穎性。
誤區(qū)三 先發(fā)表論文或成果鑒定再申請專利
有些發(fā)明人取得研究成果后急于發(fā)表文章或成果鑒定，而沒有想到先申請專利保護。
由于發(fā)表文章或成果鑒定不可避免地要公開技術(shù)內(nèi)容，使專利申請失去新穎性而得不到保護。
誤區(qū)四 對專利缺乏有效的管理
有些企業(yè)申請了很多專利，但無專人管理。
專利文件之間有的互相沖突，有的已無市場價值還在交納年費。
有的專利權(quán)已經(jīng)遭受侵犯但企業(yè)管理者對專利特征不了解，不能及時提起訴訟。
誤區(qū)五 缺乏長遠的專利戰(zhàn)略規(guī)劃
有計劃地實施專利戰(zhàn)略對企業(yè)來說非常重要，可以避免時間和精力的浪費。
一些企業(yè)毫無目的的申請大量專利，結(jié)果導(dǎo)致授權(quán)率低，并產(chǎn)生大量的垃圾專利，浪費時間和精力。
一個企業(yè)應(yīng)該對自己行業(yè)內(nèi)的基本專利狀況及外圍專利狀況有十分明確的認識。
從而找到技術(shù)突破口，排除他人專利障礙，確立自己的專利優(yōu)勢，贏得市場競爭。
