本文關(guān)鍵詞：發(fā)明專利申請，發(fā)明專利技術(shù)交底書，技術(shù)交底書填寫
要申請發(fā)明專利，技術(shù)交底書是必須要填寫的。技術(shù)交底書填寫的好壞會對專利申請有著很大的影響。一份好的技術(shù)交底書應(yīng)當(dāng)清楚、完整的記載發(fā)明創(chuàng)造的內(nèi)容及圖示等內(nèi)容。那么，在成都專利技術(shù)交底書應(yīng)該包含哪些內(nèi)容呢？下面我們來看一看。
一份完整的專利技術(shù)交底書應(yīng)包含的內(nèi)容如下：
1.專利名稱
名稱一般是根據(jù)現(xiàn)有技術(shù)來確定的，需要根據(jù)所屬技術(shù)領(lǐng)域簡單明了地反映該發(fā)明的技術(shù)內(nèi)容是產(chǎn)品、裝置或方法。并且在發(fā)明和實(shí)用新型中，不能使用宣傳用語。
2.技術(shù)領(lǐng)域
應(yīng)明確該發(fā)明的技術(shù)方案所屬的技術(shù)領(lǐng)域。
3.背景技術(shù)
寫明對該發(fā)明的理解、檢索、審查有用的背景技術(shù)；一般至少要引證一篇與本申請最接近的技術(shù)文件。
4.發(fā)明內(nèi)容
發(fā)明內(nèi)容是指實(shí)現(xiàn)該發(fā)明所利用的具體技術(shù)方案和手段，并且要求清楚、完整、準(zhǔn)確的對技術(shù)手段加以描述。還要在發(fā)明內(nèi)容中說明區(qū)別于現(xiàn)有技術(shù)的技術(shù)點(diǎn)，在描述區(qū)別技術(shù)手段時(shí)，也要相應(yīng)的說明在本發(fā)明中起的作用是什么，還有上面提到的對有益效果的清晰描述，有益效果不能是憑空遐想的，要根據(jù)具體方案詳細(xì)分析是如何解決現(xiàn)有問題并能達(dá)到的實(shí)際效果，也可以強(qiáng)調(diào)對于技術(shù)內(nèi)容中的某些技術(shù)手段帶來的技術(shù)效果。還有有一點(diǎn)需要特別注意的，如果發(fā)明內(nèi)容有要保密的相關(guān)技術(shù)，那么在撰寫時(shí)可以對其內(nèi)容可以有所保留，但也要保證所公開的內(nèi)容是可以實(shí)現(xiàn)發(fā)明的。
5.附圖及附圖說明
其實(shí)圖片往往比文字更能清楚的反應(yīng)發(fā)明創(chuàng)造要點(diǎn)，附圖有零件圖、組件裝配圖、組件爆炸圖、電路圖、線路圖、流程圖、方框圖、模塊圖、曲線示意圖、形狀示意圖等，可根據(jù)需求進(jìn)行相關(guān)附圖。附圖也是需要對其說明的，要說明附的是什么圖，指出什么部件在什么位置、什么方向，而且要對附圖進(jìn)行詳細(xì)說明，避免圖片和文字不匹配。
6.具體實(shí)施方案
實(shí)施方案需要實(shí)事求是的描述技術(shù)人員實(shí)施和再現(xiàn)本發(fā)明所需的一切條件，如參數(shù)、材料、設(shè)備、工具等，以及必要的規(guī)格、型號、材料的制造方法等，同時(shí)應(yīng)與附圖保持高度一致。
