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【專利】中國(guó)唯一的光刻機(jī)巨頭,專利申請(qǐng)超過2000項(xiàng),占據(jù)80%市場(chǎng)份額

作者:行之知識(shí)產(chǎn)權(quán)   來源:   時(shí)間:2020-06-12

 

  長(zhǎng)期以來,我國(guó)芯片技術(shù)的發(fā)展,一直處于停滯狀態(tài),過去長(zhǎng)期存在“造不如買,買不如租”的陳舊思維,不僅沒什么收獲可言,反而耽誤了寶貴的發(fā)展機(jī)遇。
  最近,隨著美國(guó)制裁的升級(jí),華為再次成為了行業(yè)焦點(diǎn),美國(guó)無法從上游控制中國(guó),就尋思從中游控制中國(guó),而這透露出的“國(guó)產(chǎn)芯片之痛”,正是多年來國(guó)內(nèi)科技企業(yè)一直無法突破的瓶頸。
  壹
  目前,在芯片加工方面,臺(tái)積電占據(jù)主導(dǎo)地位,而光刻機(jī)又是芯片生產(chǎn)環(huán)節(jié)的關(guān)鍵設(shè)備,在全球光刻機(jī)全球梯隊(duì)中,荷蘭ASML排名第一,是唯一一家可以生產(chǎn)EUV光刻機(jī)的廠家。
  如今考慮到臺(tái)積電無法繼續(xù)為華為芯片代工,中芯國(guó)際理所應(yīng)當(dāng)被寄予厚望,不過遺憾的是,中芯國(guó)際卻因高端光刻機(jī)的缺席,無法完成7nm芯片的代工。
  其實(shí),中芯國(guó)際也曾在2018年向ASML訂購(gòu)了一臺(tái)億美元的光刻機(jī),但是由于種種原因,至今也沒有到貨的消息。
  沒有先進(jìn)的光刻機(jī),中芯國(guó)際再怎么努力,也生產(chǎn)不出華為研發(fā)設(shè)計(jì)的5G芯片,而光刻技術(shù),又是決定中芯國(guó)際能否提升芯片性能的一項(xiàng)重要技術(shù)。
  事實(shí)上,除了荷蘭ASML、日本的尼康、佳能,中國(guó)也還有一家企業(yè)可以制造光刻機(jī),它就是上海微電子裝備有限公司(SMEE),也是目前國(guó)內(nèi)唯一可以制造光刻機(jī)的廠商。
  根據(jù)芯思想2018年數(shù)據(jù),上海微電子光刻機(jī)年出貨大概在50-60臺(tái)之間;根據(jù)中國(guó)半導(dǎo)體協(xié)會(huì)數(shù)據(jù),公司在半導(dǎo)體設(shè)備商中排名第5,是唯一上榜的專門研究銷售光刻機(jī)的廠商。
  可以說,上海微電子是“中國(guó)光刻機(jī)巨頭”的稱號(hào)也是實(shí)至名歸。
  貳
  我國(guó)光刻機(jī)研發(fā)雖然起步晚,但追趕速度快,歷經(jīng)十幾年的自主創(chuàng)新,目前上海微電子已經(jīng)掌握了先進(jìn)封裝光刻機(jī)等技術(shù),與此同時(shí),上海微電子還預(yù)計(jì)將在2021年交付首臺(tái)28nm芯片光刻機(jī)!
  在此之前,國(guó)內(nèi)多數(shù)智能手機(jī)所使用的光刻機(jī),主要依賴于進(jìn)口,而國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)的難度又在于,其核心制造精密的零配件和關(guān)鍵技術(shù)未能掌握,造不出來,也買不到。
  ASML光刻機(jī),雖然技術(shù)先進(jìn),但也并不是荷蘭以一國(guó)之力就能造出來的。其中,光學(xué)設(shè)備來自美國(guó),鏡頭組件來自德國(guó)蔡司,此外還有5萬個(gè)零部件也依賴于國(guó)外進(jìn)口。
  臺(tái)積電之所以這么牛,就是因?yàn)楹商mASML一半以上的EUV光刻機(jī)都交付給了臺(tái)積電,由于利益捆綁,即便是日韓等國(guó)廠商想反超,也是難上加難,更別說是美國(guó)制裁下的國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)巨頭了。
  叁
  要知道,真正的核心技術(shù)是買不來的,正所謂“國(guó)之利器,不可以示人”。
  那么,中國(guó)的光刻機(jī)研發(fā)水平與荷蘭ASML相比,是什么水平呢?
  放眼全球,上海微電子在國(guó)際排名中位列第四,與第一名的ASML以及第二三名的日本佳能和康尼等公司相比,還有一定的差距。
  作為國(guó)內(nèi)唯一可以生產(chǎn)光刻機(jī)的廠商,目前只能生產(chǎn)90nm制程光刻機(jī),這是荷蘭ASML公司大概15年前的水平!
  不過,隨著上海微電子光刻機(jī)技術(shù)的成熟,計(jì)劃明年就可以交付首臺(tái)國(guó)產(chǎn)28nm的光刻機(jī),雖然與目前主流的7nm還有很大的差距,但已經(jīng)邁出了一大步。
  想當(dāng)年,在條件極為艱苦的環(huán)境下,都能研究出“兩彈一星”,更何況現(xiàn)在技術(shù)、人才、資金一點(diǎn)不比當(dāng)年差,只要全國(guó)一盤棋,大煉光刻機(jī),早晚會(huì)打一個(gè)翻身仗!
  從目前來看,上海微電子最缺的并不是錢,而是缺類似美國(guó)光源、德國(guó)鏡頭、瑞士軸承這樣的國(guó)內(nèi)科技企業(yè)。
  路漫漫其修遠(yuǎn)兮,吾將上下而求索。
  忍讓換不來尊重,眼淚更換不來同情,真心希望我們的中國(guó)企業(yè),能痛定思痛,把精力放到科技研發(fā)上,置之死地而后生!
  有了上海微電子、華為和中芯國(guó)際的助力,相信未來我們必能打破技術(shù)封喉,掌握自主核心技術(shù),在半導(dǎo)體領(lǐng)域不斷取得突破。
  從此,不要對(duì)美國(guó)抱有任何幻想,期待這一天早日到來!

 

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