自9月1日起韓國放寬外觀設(shè)計專利申請的要求

 

　　韓國特許廳（KIPO）表示，為了讓外觀設(shè)計專利申請更為簡單便捷，自2020年9月1日起申請的外觀設(shè)計專利，對于外觀設(shè)計圖片的要求大幅放寬。

　　首先，申請字體外觀設(shè)計專利時，可以提交字體文件庫本身的TTF格式。

　　以往申請字體外觀設(shè)計專利時，在開發(fā)制作字體（字體文件）之后，需另行制作并提交字體圖片，該要求給申請人造成了繁瑣與不便。但自今日起，通過受理TTF格式的字體，可為申請人減少制圖的時間和費(fèi)用。

　　此外，針對以三維電子文件提交新申請的外觀設(shè)計專利，今后允許以二維電子文件提交修改文件；同樣，如果以二維電子文件提交的新外觀設(shè)計申請，可以以三維電子文件提交修改文件。

　　以往提交修改文件時，必須以與申請時遞交的文件格式相同形式的圖片遞交。通過本次改革，修改文件的格式形式不再受前文描述的限制，從而使申請人更為便捷快速的進(jìn)行圖片修改。

　　另外，今后允許在外觀設(shè)計申請書中記載"國家研究開發(fā)項目"，"外觀設(shè)計轉(zhuǎn)讓意愿"事項。特許廳期待該事項的公開記載有助于外觀設(shè)計的宣傳推廣和交易。

　　特許廳商標(biāo)外觀設(shè)計審查局局長表示："通過允許提交字體格式和放寬圖片提交條件的改革，申請人的時間和費(fèi)用得到節(jié)約，我們還期待本次改革為申請人帶去申請和修改的便捷，今后我們將持續(xù)推進(jìn)制度改革，致力于為申請人打造更為便捷的外觀設(shè)計專利申請環(huán)境，以確保申請人容易獲得外觀設(shè)計專利權(quán)"。