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TISC ︳如何利用專利信息挖掘產(chǎn)業(yè)競爭態(tài)勢?

作者:行之集團-Richtofen   來源:行之知識產(chǎn)權(quán)集團   時間:2022-04-15

 

  本文關(guān)鍵詞:專利挖掘,專利信息,專利分析

  產(chǎn)業(yè)競爭的焦點是技術(shù)競爭和知識產(chǎn)權(quán)爭奪,由技術(shù)競爭和知識產(chǎn)權(quán)爭奪所驅(qū)動的產(chǎn)業(yè)結(jié)構(gòu)轉(zhuǎn)型升級離不開產(chǎn)業(yè)技術(shù)情報工作的支持,產(chǎn)業(yè)技術(shù)情報作為推動產(chǎn)業(yè)技術(shù)創(chuàng)新發(fā)展的重要支撐,其在產(chǎn)業(yè)政策或規(guī)劃制定、產(chǎn)業(yè)技術(shù)趨勢預(yù)測、共性技術(shù)與關(guān)鍵技術(shù)識別、技術(shù)研發(fā)需求和技術(shù)資源分配等方面發(fā)揮重要的作用。

專利挖掘

  一、產(chǎn)業(yè)技術(shù)情報挖掘流程

  表1  基于專利分析視角的產(chǎn)業(yè)技術(shù)情報挖掘內(nèi)容

基于專利分析視角的產(chǎn)業(yè)技術(shù)情報挖掘內(nèi)容

  1、基于產(chǎn)業(yè)環(huán)境角度的挖掘
  產(chǎn)業(yè)環(huán)境分析包括以下兩個方面:一是通過分析證券類公司、市場調(diào)查研究咨詢類公司和國內(nèi)外智庫等咨詢機構(gòu)發(fā)布的相關(guān)研究報告等,從中挖掘目標產(chǎn)業(yè)有價值的市場需求情報。二是從政府、行業(yè)協(xié)會等相關(guān)網(wǎng)站著手,通過梳理與解讀政策內(nèi)容來挖掘目標產(chǎn)業(yè)政策情報信息,以獲知政府對目標產(chǎn)業(yè)的政策偏好。
  2、以專利數(shù)據(jù)集為中心的挖掘
  以產(chǎn)業(yè)技術(shù)專利數(shù)據(jù)為切入點,從產(chǎn)業(yè)技術(shù)資源、產(chǎn)業(yè)技術(shù)鏈和產(chǎn)業(yè)競爭格局3個方面闡述以專利數(shù)據(jù)集為中心的產(chǎn)業(yè)技術(shù)情報挖掘途徑與方法。產(chǎn)業(yè)技術(shù)資源主要以技術(shù)儲備、技術(shù)發(fā)展趨勢表征和技術(shù)布局為測度指標。產(chǎn)業(yè)技術(shù)鏈以產(chǎn)業(yè)關(guān)鍵技術(shù)和產(chǎn)業(yè)共性技術(shù)為測度指標。
  產(chǎn)業(yè)競爭格局則從3個層面入手,
  一是國家與地區(qū)層面,地區(qū)既包括由若干國家組成的區(qū)域性國際組織(如歐盟等),也包括一個國家的特別行政區(qū)域(如中國的香港與臺灣等);
  二是區(qū)域?qū)用妫侵敢粋€國家下轄的省級機構(gòu),如中國的省、自治區(qū)和直轄市,美國的州等;
  三是研發(fā)機構(gòu)層面,包括企業(yè)、高校和科研院所等。

  二、產(chǎn)業(yè)技術(shù)資源的挖掘

  1、產(chǎn)業(yè)技術(shù)儲備。
  依據(jù)獲得的專利數(shù)據(jù)集,采用數(shù)學(xué)統(tǒng)計方法,直接獲得該產(chǎn)業(yè)技術(shù)現(xiàn)有的專利總數(shù),再根據(jù)檢索結(jié)果中的法律狀態(tài)信息,篩選出產(chǎn)業(yè)專利的申請數(shù)、授權(quán)數(shù)和PCT專利數(shù),從而挖掘出產(chǎn)業(yè)技術(shù)的現(xiàn)有技術(shù)儲備。根據(jù)檢索結(jié)果中的申請人/專利權(quán)人的數(shù)量進行統(tǒng)計分析,可獲得產(chǎn)業(yè)技術(shù)現(xiàn)有或潛在的擁有者或生產(chǎn)者。
  2、產(chǎn)業(yè)技術(shù)發(fā)展趨勢。
  基于上述產(chǎn)業(yè)專利的申請數(shù)、授權(quán)數(shù)以及產(chǎn)業(yè)PCT專利數(shù),結(jié)合時間序列分析法,可以獲得不同年度的產(chǎn)業(yè)專利申請、授權(quán)和PCT的數(shù)量?;谀硞€時間段內(nèi)的專利申請量與專利申請人數(shù)量變化進行組合分析,可分析專利技術(shù)所處的發(fā)展階段,推測未來技術(shù)的發(fā)展方向,從而獲得產(chǎn)業(yè)技術(shù)生命周期,揭示產(chǎn)業(yè)技術(shù)的動態(tài)變化趨勢,進而為產(chǎn)業(yè)技術(shù)前瞻性的管理提供決策。
  3、產(chǎn)業(yè)技術(shù)布局。
  可以通過諸如國際專利分類表(IPC),在歐洲和美國通用的合作專利分類表(CPC),以及專門針對德溫特全球?qū)@麛?shù)據(jù)庫的德溫特分類代碼(Derwent Class Code)和德溫特手工代碼(Derwent Manual Code)等專利分類代碼,結(jié)合相關(guān)專利分類表,可獲得子技術(shù)(或下位技術(shù))的數(shù)量,對目標產(chǎn)業(yè)技術(shù)布局進行統(tǒng)計分析,可以挖掘出該產(chǎn)業(yè)技術(shù)主題分布情況以此來解讀技術(shù)布局狀況,如果再結(jié)合時間序列分類,還可獲得每個子技術(shù)(或下位技術(shù))的年度變化情況。

  三、基于產(chǎn)業(yè)技術(shù)鏈視角的挖掘

  1、產(chǎn)業(yè)關(guān)鍵技術(shù)布局。
  分析產(chǎn)業(yè)的關(guān)鍵技術(shù)及其演進脈絡(luò),有助于把握產(chǎn)業(yè)發(fā)展重點,聚焦研發(fā)目標,優(yōu)化資源配置??梢砸罁?jù)同族專利數(shù)、專利維持年數(shù)、專利權(quán)利要求項數(shù)、專利引用次數(shù)和專利強度等指標中的一個指標或多個指標組合來進行挖掘,其中同族專利數(shù)在一些公開免費的專利數(shù)據(jù)庫(如歐洲Espacenet)可以直接進行歸族篩選處理;專利維持年數(shù)、專利權(quán)利要求項數(shù)則可以在大多數(shù)國內(nèi)外公開免費的專利數(shù)據(jù)中通過計算獲得,而在某些商業(yè)專利信息分析平臺(如incoPat),則會直接給出相應(yīng)的數(shù)據(jù);專利引用次數(shù)在一定程度上會受到專利著錄數(shù)據(jù)的限制,目前美國和歐洲專利在引用數(shù)據(jù)方面較為全面,而國內(nèi)專利的引用數(shù)據(jù)則較為局限,但對于可以開展引證分析的專利數(shù)據(jù)來說,對于判別某個產(chǎn)業(yè)關(guān)鍵技術(shù)專利較為重要,這些引用數(shù)據(jù)在商業(yè)專利信息分析平臺比較容易獲取。通過技術(shù)主題的詞頻統(tǒng)計以及運用incoPat、Patentics等專利信息分析平臺的聚類分析和引證分析等功能,對其進行技術(shù)相似度的聚類分析,或者通過技術(shù)功效、專利引證分析,則可找到某產(chǎn)業(yè)技術(shù)領(lǐng)域的熱點(重點)專利,以揭示熱點技術(shù)主題分布情況。如果結(jié)合產(chǎn)業(yè)鏈可以獲取產(chǎn)業(yè)上、中、下游的關(guān)鍵技術(shù),可以獲得產(chǎn)業(yè)關(guān)鍵技術(shù)的產(chǎn)業(yè)鏈布局情況;如果結(jié)合時間序列分析,可以獲得揭示關(guān)鍵技術(shù)的演進過程。
  2、產(chǎn)業(yè)共性技術(shù)篩選。
  產(chǎn)業(yè)共性技術(shù)具有基礎(chǔ)性、關(guān)聯(lián)性、外部性和需求等技術(shù)特性。其挖掘的途徑與方法可從產(chǎn)業(yè)專利的技術(shù)主題檢索入手,對檢索結(jié)果通過采用具有技術(shù)特征的主題詞或關(guān)鍵詞、專利分類代碼(如IPC、CPC、德溫特手工代碼)等信息,進行共現(xiàn)關(guān)系分析,并以共現(xiàn)強度(即共現(xiàn)頻次)和同引用強度(以同引用頻次來衡量)作為測度指標,分別敲定閾值,篩選出獲得產(chǎn)業(yè)共性技術(shù)相關(guān)的若干專利。如有需要,還可以在此基礎(chǔ)上對這些專利按同族專利數(shù)量進行排序,設(shè)定一定的閾值再篩選出產(chǎn)業(yè)共性技術(shù)專利。

  四、研發(fā)機構(gòu)競爭格局的挖掘

  基于目標產(chǎn)業(yè)專利的專利申請人/專利權(quán)人分布情況,可以揭示產(chǎn)業(yè)(關(guān)鍵)技術(shù)的研發(fā)機構(gòu)分布情況,結(jié)合時間序列分析,可獲得不同研發(fā)機構(gòu)在產(chǎn)業(yè)(關(guān)鍵)技術(shù)的動態(tài)變化情況。另外,還可采用Innography專利信息分析平臺所提供的研發(fā)機構(gòu)發(fā)展前景(Vision)這個指標來較為直接反映研發(fā)機構(gòu)的競爭態(tài)勢,該指標采用研發(fā)機構(gòu)的擁有專利數(shù)、年度營業(yè)收入(Revenue),在美國發(fā)生的訴訟案件數(shù)(Litigation)和專利引證等要素建模而來,在Innography分析平臺上,對某產(chǎn)業(yè)專利的技術(shù)主題檢索結(jié)果,進行研發(fā)機構(gòu)分析可直接獲得,從而了解研發(fā)機構(gòu)的競爭力。也可以根據(jù)用戶需求,通過自建計算模型進而計算出來的一個研發(fā)機構(gòu)發(fā)展前景指數(shù),以衡量研發(fā)機構(gòu)綜合實力。
  基于專利文獻數(shù)據(jù)并通過挖掘現(xiàn)有產(chǎn)業(yè)技術(shù)信息來預(yù)測產(chǎn)業(yè)技術(shù)發(fā)展態(tài)勢,不僅有助于產(chǎn)業(yè)決策者加強對產(chǎn)業(yè)技術(shù)發(fā)展環(huán)境的認知,也有利于行業(yè)參與者或競爭參與者了解產(chǎn)業(yè)技術(shù)競爭格局和發(fā)展趨勢。

 

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